机译:具有掩埋缺陷和吸收剂特征的极紫外掩模的快速三维模拟和光化检查的比较
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:使用EUV显微镜进行光化掩模检查:制备用于相缺陷检测的Mirau干涉仪
机译:使用光化检查和快速仿真研究掩埋的EUV掩模缺陷可印刷性
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:复合抗腐蚀涂层的脉冲热成像检测:通过计算模拟缺陷检测和分析其热行为
机译:euv光化缺陷检查和缺陷在子32-32-nm半间距上的可打印性